CARACTERISTIQUES GENERALES
ACRYSIL est une émulsion à base de polymères acryliques conçue pour boucher les pores des sols en ciment. ACRYSIL est en phase aqueuse et peut être étalée comme une normale cire métallisée. Il forme un film de protection doté d'une bonne résistance physique et chimique. Il est recommandé pour les sols en ciment, les sols en pierres, les sols poreux des entrepôts, des laboratoires, des ateliers, centres commerciaux avec un trafic intense. Pour améliorer la résistance du film à l'eau et à l'huile, ajouter le catalyseur IPC à ACRYSIL.
MODE D’EMPLOI
APPLICATION: pour les sols en ciment, effectuer un lavage de fond avec une solution de DEKACID à 10% et rincer soigneusement. Effectuer un prélavage à l'eau avant du lavage acide. En cas de sols très compacts, pour mieux ouvrir les pores renforcer la solution de DEKACID avec 10% de INDUSTRIA F. Utiliser pour cette opération une monobrosse et un aspirateur à eau ou une autolaveuse. Appliquer ACRYSIL quand le sol est encore humide pour en faciliter l'adhérence et l'étalement. En effet, le sol en ciment sec, absorbe d'une manière discontinue et peut provoquer un étalement non uniforme du produit. Le catalyseur IPC doit être ajouter à raison du 1,5% (150 gr sur 10 kg de ACRYSIL).
ENTRETIEN: laver avec une solution de GRIT ou de FLUID ou de SYNDE à1‐5% en fonction du degré de salissure. Utiliser une autolaveuse ou une monobrosse munie d'un disc souple avec un aspirateur à eau, ou laver à la main avec un mop.
DECAPAGE: La protection avec ACRYSIL est semi‐permanente. Dans le cas ou il est nécessaire de décaper le film partiellement abîmé, utiliser une solution de DEKA P à 20‐30% et une monobrosse à basse vitesse avec un disque noir aéré (type 66). Laisser agir le produit, aspirer et rincer à l'eau. Pour certaines typologies de ciment très poreux, vous pouvez rencontrer des difficultés à libérer les pores du film du produit. Dans ce cas, vous pouvez demander à KEMIKA des agents de synergie spécialement étudiés pour être utilisés en combinaison avec DEKA P.
